据外媒LetsGoDigital报道，苹果将在2020年推出全新设计的高端iPhone机型，为了实现真正意义的全面屏，苹果将TrueDepth相机转移至屏幕下，同时移除面容ID功能，并增加屏下指纹识别。

据悉，苹果已在日本申请了三项外观设计专利，展示了无刘海屏的iPhone样式。文档由日本专利局在2019年12月23日公布，新款iPhone在移除Face ID的同时还集成了屏下指纹和屏下摄像头，屏幕四侧边缘都有些圆润，接收器位于上挡板的中间位置。

此前分析师郭明錤曾预测，苹果会在2021年的iPhone上增加屏下指纹功能，并且会与面容ID共存。至于LetsGoDigital所报道的真实性目前无法确认。

结合此前消息，苹果将在今年推出4款iPhone 5G机型，具体来说包括两款6.1英寸、一款5.4英寸和一款6.7英寸的，都会使用高通骁龙X55基带。